- Sections
- C - Chimie; métallurgie
- C23C - Revêtement de matériaux métalliques; revêtement de matériaux avec des matériaux métalliques; traitement de surface de matériaux métalliques par diffusion dans la surface, par conversion chimique ou substitution; revêtement par évaporation sous vide, par pulvérisation cathodique, par implantation d'ions ou par dépôt chimique en phase vapeur, en général
- C23C 16/26 - Dépôt uniquement de carbone
Détention brevets de la classe C23C 16/26
Brevets de cette classe: 1515
Historique des publications depuis 10 ans
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155
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130
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25
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| 2015 | 2016 | 2017 | 2018 | 2019 | 2020 | 2021 | 2022 | 2023 | 2024 |
Propriétaires principaux
| Proprétaire |
Total
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Cette classe
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|---|---|---|
| Applied Materials, Inc. | 16587 |
94 |
| Tokyo Electron Limited | 11599 |
61 |
| Lam Research Corporation | 4775 |
38 |
| Samsung Electronics Co., Ltd. | 131630 |
31 |
| Hon Hai Precision Industry Co., Ltd. | 4157 |
22 |
| Tsinghua University | 5426 |
22 |
| Honda Motor Co., Ltd. | 24537 |
17 |
| Aixtron SE | 288 |
17 |
| ASM IP Holding B.V. | 1715 |
16 |
| Safran Ceramics | 366 |
16 |
| Paragraf Limited | 62 |
15 |
| Centre National de La Recherche Scientifique | 9632 |
14 |
| Goodrich Corporation | 2081 |
13 |
| National University of Singapore | 2228 |
13 |
| The Regents of the University of California | 18943 |
12 |
| Commissariat à l'énergie atomique et aux energies alternatives | 10525 |
11 |
| National Institute of Advanced Industrial Science and Technology | 3677 |
11 |
| Federal-Mogul Burscheid GmbH | 284 |
11 |
| LG Chem, Ltd. | 17205 |
10 |
| Massachusetts Institute of Technology | 9795 |
10 |
| Autres propriétaires | 1061 |